Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Koval Olga Yu
Koval Olga Yu
IstinaResearcherID (IRID): 814004270
–

Статьи в журналах

    • 2024 Annealing Temperature Effect on the Physical Properties of NiO Thin Films Grown by DC Magnetron Sputtering
    • Timoshnev Sergey N., Kazakin Alexey N., Shubina Kseniia Yu, Andreeva Valentina D., Fedorenko Elizaveta D., Koroleva Aleksandra V., Zhizhin Evgeniy V., Koval Olga Yu, Kurinnaya Alina, Shalin Alexander S., Bobrovs Vjaceslavs, Enns Y.
    • в журнале ADVANCED MATERIALS INTERFACES, том 11, № 9 DOI

ИСТИНА ПсковГУ
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь