–
Статьи в сборниках
-
- 2000 Epi-replacement in CMOS technology by high dose, high energy boron implantation into Cz substrates
- Bourdelle K.K., Chen Y., Ashton R.A., Rubin L.M., Agarwal A., Morris W.
- в сборнике 2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Ion Implantation Technology - 2000 (Cat. No.00EX432), место издания IEEE DOI