–
Статьи в журналах
-
- 1999 The effect of as-implanted damage on the microstructure of threading dislocations in MeV implanted silicon
- Bourdelle K.K., Eaglesham D.J., Jacobson D.C., Poate J.M.
- в журнале Journal of Applied Physics, издательство AIP Publishing (United States), том 86, № 3, с. 1221-1225 DOI
Статьи в сборниках
-
- 2000 Decaborane, an alternative approach to ultra low energy ion implantation
- Jacobson D.C., Bourdelle K., Gossmann H.J., Sosnowski M., Albano M.A., Babaram V., Poate J.M., Agarwal A., Perel A., Horsky T.
- в сборнике 2000 International Conference on Ion Implantation Technology Proceedings. Ion Implantation Technology - 2000 (Cat. No.00EX432), место издания IEEE DOI