Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Van Den Daele W.
Van Den Daele W.
IstinaResearcherID (IRID): 599299310
–

Статьи в журналах

    • 2009 Improved GeOI substrates for pMOSFET off-state leakage control
    • Romanjek K., Augendre E., Van Den Daele W., Grandchamp B., Sanchez L., Le Royer C., Hartmann J.M., Ghyselen B., Guiot E., Bourdelle K., Cristoloveanu S., Boulanger F., Clavelier L.
    • в журнале Microelectronic Engineering, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 86, № 7-9, с. 1585-1588 DOI

ИСТИНА ПсковГУ
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь