Ключевые слова: плазмохимическая кинетика; осаждение углеродных пленок; моделирование плазмохимических реакторов; low-k-диэлектрики; органосиликатные нанопористые пленки; двумерные материалы / plasma-chemical kinetics; carbon film deposition; chemical reactor modeling; low-k dielectrics; two-dimensional materials