Создать обращение в службу поддержки пользователей
Обращение успешно создано! Ему присвоен номер 0.
На адрес Вашей электронной почты отправлено письмо о регистрации обращения. Вы можете ответить на него, если хотите предоставить дополнительную информацию или прикрепить файлы.
Произошла ошибка при создании обращения. Попробуйте перезагрузить страницу и заново создать обращение.

Подтверждение выхода

Вы действительно хотите завершить сессию?
ИСТИНА ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
  • Область интересов
  • Публикации
  • НИР и НИОКР
  • Доклады
  • Учебная работа
  • Инновации
  • Прочее
  • Все результаты
Удаление сотрудника
Вы действительно хотите удалить сотрудника?
Удалить
Klauk H.
Klauk H.
IstinaResearcherID (IRID): 2788409
–

Статьи в журналах

    • 2006 Decyl-end-capped thiophene-phenylene oligomers as organic semiconducting materials with improved oxidation stability
    • Ponomarenko S.A., Kirchmeyer S., Elschner A., Alpatova N.M., Halik M., Klauk H., Zschieschang U., Schmid G.
    • в журнале Chemistry of Materials, издательство American Chemical Society (United States), том 18, № 2, с. 579-586 DOI
    • 2005 1,4-bis(5-decyl-2,2 '-bithien-5-yl)benzene as new stable organic semiconductor for high performance thin film transistors
    • Ponomarenko S.A., Kirchmeyer S., Halik M., Klauk H., Zschieschang U., Schmid G., Karbach A., Drechsler D., Alpatova N.M.
    • в журнале Synthetic Metals, издательство Elsevier BV (Netherlands), том 149, № 2-3, с. 231-235 DOI
    • 2003 High-mobility organic thin-film transistors based on alpha,alpha '-didecyloligothiophenes
    • Halik M., Klauk H., Zschieschang U., Schmid G., Radlik W., Ponomarenko S., Kirchmeyer S., Weber W.
    • в журнале Journal of Applied Physics, издательство AIP Publishing (United States), том 93, № 5, с. 2977-2981 DOI
    • 2003 Relationship between molecular structure and electrical performance of oligothiophene organic thin film transistors
    • Halik M., Klauk H., Zschieschang U., Schmid G., Ponomarenko S., Kirchmeyer S., Weber W.
    • в журнале Advanced Materials, издательство Wiley - VCH Verlag GmbH & CO. KGaA (Germany), том 15, № 11, с. 917-922 DOI

ИСТИНА ПсковГУ
© 2011-2025 Лаборатория 404. НИИ механики МГУ.
Правила пользования
Помощь
Создать обращение Обратная связь