|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ПсковГУ |
||
Optimization of electrochemical etching parameters improves the quality factor of porous silicon microcavitiesстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: Granizo E.A., Kryukova I.S., Nabiev I.R., Samokhvalov P.S.
- Журнал: Письма в "Журнал технической физики"
- Том: 51
- Номер: 5
- Год издания: 2025
- Издательство: Физико-технический институт им. А.Ф.Иоффе Российской академии наук
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 7
- Последняя страница: 10
- Добавил в систему: Набиев Игорь Руфаилович