Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ПсковГУ
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
ЭЛЕМЕНТАРНЫЕ ХИМИЧЕСКИЕ РЕАКЦИИ НА ПОВЕРХНОСТИ SiO2 ВО ФТОРУГЛЕРОДНОЙ ПЛАЗМЕ
статья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК
Авторы:
Зиганшин И.И.
,
Лопаев Д.В.
,
Рахимов А.Т.
Журнал:
Физика плазмы
Том:
51
Номер:
9
Год издания:
2025
Издательство:
ФГБУ "Издательство "Наука"
Местоположение издательства:
Москва
Первая страница:
1017
Последняя страница:
1026
Переводные версии:
Elementary Chemical Reactions on the SiO2 Surface in Fluorocarbon Plasma
DOI:
10.31857/S0367292125090081
Добавил в систему:
Зиганшин Илья Ильнурович
Прикрепленные файлы
№
Имя
Описание
Имя файла
Размер
Добавлен