Влияние буферной Si-вставки на структуру многослойных зеркал Ti/Ni разной конфигурации с применением методов рентгеновской рефлектометрии и стоячих рентгеновских волнтезисы доклада
Аннотация:Многослойные зеркала на основе систем Ti/Ni широко используются в рентгеновской оптике и нейтронографии, при этом ключевым параметром их эффективности является качество межслоевых границ. В работе исследуется влияние буферных Si-вставок на структуру четырех типов многослойных зеркал с 40 периодами: Ti/Ni, Ti/Si/Ni, Ti/Ni/Si и Ti/Si/Ni/Si. Методами рентгеновской рефлектометрии и стоячих рентгеновских волн получены профили электронной плотности и распределения атомов Ti и Ni по глубине структур. На основе этих данных количественно оценены толщины переходных слоев и их асимметрия для различных конфигураций вставок Si. Показано, что структура без вставок (Ti/Ni) характеризуется наибольшими переходными слоями и быстрым затуханием дифракционных пиков, тогда как оптимальной является конфигурация Ti/Si/Ni/Si, демонстрирующая минимальные переходные слои и максимальную интенсивность первого дифракционного пика. Полученные результаты указывают на перспективность использования многослойных зеркал Ti/Si/Ni/Si в рентгеновской оптике современных источников синхротронного излучения, включая проект СИ 4-го поколения «СИЛА».
