Расчёт массовых распределений фрагментов поверхности Cu, распыленных кластерными ионами Ar, на основе молекулярно-динамического  моделирования

Авторы: Назаров А.В., Киреев Д.С., Ратцев А.Н., Черныш В.С.
Журнал: Вестник Московского университета. Серия 3: Физика, астрономия
Том: 80
Номер: 4
Год издания: 2025
Издательство: Изд-во Моск. ун-та
Местоположение издательства: М.
Номер статьи: 2540303
DOI: 10.55959/MSU0579-9392.80.2540303
Аннотация: Проведено молекулярно-динамическое моделирование процессов взаимодействия кластеров Ar с поверхностью Cu при разных соотношениях E/n. Рассчитаны распределения распыленных фрагментов по массам. Показано, что данные распределения описываются степенным законом как функцией от размера фрагмента. Изучены зависимости показателя степени от энергии и размер первичного кластера, показано, что он коррелирует с полным коэффициентом распыления аналогично случаю распыления атомарными ионами.
Добавил в систему: Назаров Антон Викторович

	ИСТИНА	Войти в систему Регистрация
	ИСТИНА ПсковГУ
	Главная Поиск Статистика О проекте Помощь

ИСТИНА