|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ПсковГУ |
||
Формирование барьерного слоя мембранного катализатора из диоксида вольфрамастатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАК- Авторы: Тарасенко М.А., Макаров А.С., Желудкова Е.А., Скудин В.В.
- Журнал: Химическая промышленность сегодня
- Номер: 4
- Год издания: 2025
- Издательство: ООО "Химпром сегодня"
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 23
- Последняя страница: 31
- Номер статьи: 3
- Аннотация: Применение метода осаждения из газовой фазы (CVD-метод) для получения мембранных катализаторов (МК) со сложным составом каталитически активного компонента пока не получил достаточно широкого распространения. Использование барьерного слоя при формировании MC необходимо для осаждения смешанных оксидов молибдена и вольфрама из газообразных смесей соответствующих карбонилов. В данной работе исследовано формирование барьерного слоя из оксидов вольфрама в интервале температур от 200 °C до 400 °C. С помощью рентгенофазового анализа показано, что вольфрам, образующийся в этих условиях из смесей карбонила вольфрама с аргоном на поверхности керамической микрофильтрационной мембраны, представляет собой диоксид вольфрама. Установлено, что кристаллизация WO2 из аморфного осадка происходит при температурах 350 °C – 400 °C. Методами электронной сканирующей микроскопии и энергодисперсионного анализа исследовано распределение вольфрама как на внешней поверхности керамической пористой подложки, так и по ее глубине. Методом низкотемпературной адсорбции азота установлены поровые характеристики образцов. Сделано заключение от том, что наиболее благоприятные условия для формирования барьерного слоя мембранных катализаторов CVD-методом складываются при 400 °C.
- Добавил в систему: Тарасенко Михаил Александрович
Прикрепленные файлы
| № | Имя | Описание | Имя файла | Размер | Добавлен |
|---|