Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ПсковГУ
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Hollow Cathode Gas Flow Sputtering of Nickel Oxide Thin Films for Hole‐Transport Layer Application in Perovskite Solar Cells
статья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Авторы:
Sri Hari Bharath Vinoth Kumar
,
Muydinov Ruslan
,
Maticiuc Natalia
,
Alktash Nivin
,
Rusu Marin
,
Seibertz Bertwin Bilgrim Otto
,
Köbler Hans
,
Abate Antonio
,
Unold Thomas
,
Lauermann Iver
,
Szyszka Bernd
Журнал:
Advanced Energy Materials
Год издания:
2023
Номер статьи:
2300201
DOI:
10.1002/aesr.202300201
Добавил в систему:
Муйдинов Руслан Юрьевич