Аннотация:В работе представлены результаты молекулярно-динамических расчетов распределений атомов, распыленных с поверхности грани (001) Ni, в рамках модели 21 атома поверхности. Было показано, что поверхностные механизмы распыления играют важную роль при ионном распылении – отталкивание от ближайших атомов поверхности и притяжение к поверхности, описываемое плоским потенциальным барьером.