Выберите категорию обращения:
Общие вопросы
Отчеты
Рейтинги
Мониторинговый отчёт
Диссертационные советы
Конкурсы
Ввод данных
Структура организаций
Аспирантура
Научное оборудование
Импорт педагогической нагрузки
Журналы и импакт-факторы
Тема обращения:
Описание проблемы:
Введите почтовый адрес:
ИСТИНА
Войти в систему
Регистрация
ИСТИНА ПсковГУ
Главная
Поиск
Статистика
О проекте
Помощь
Cryogenic etching of porous low-k dielectrics in CF3Br and CF4 plasmas
статья
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science
,
Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 11 мая 2017 г.
Авторы:
Rezvanov Askar
,
Miakonkikh Andrey V.
, Vishnevskiy Alexey S.,
Rudenko Konstantin V.
,
Baklanov Mikhail R.
Журнал:
Journal of Vacuum Science & Technology B, Nanotechnology and Microelectronics
Том:
35
Номер:
2
Год издания:
2017
Первая страница:
021204
DOI:
10.1116/1.4975646
Добавил в систему:
Руденко Константин Васильевич