|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ПсковГУ |
||
Gas Phase Pore Stuffing for Damage Mitigation during Plasma Etchingтезисы доклада
- Авторы: Yamaguchi T., Nozawa S., Fujikawa M., Marneffe J.F de, Chanson R., Gavan K.B., Rezvanov A., Lazzarino Fr
- Сборник: Extended Abstracts of the 2018 International Conference on Solid State Devices and Materials
- Тезисы
- Год издания: 2018
- Издательство: Japan Soc of Applied Physics
- Местоположение издательства: Japan
- DOI: 10.7567/ssdm.2018.ps-3-11
- Добавил в систему: Резванов Аскар Анварович