|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ПсковГУ |
||
Силикат-германат Cs2In2[(Si2.1Ge0.9)2O15](OH)2.2H2O с новым гофрированным тетраэдрическим слоем: тополого-симметрийное предсказание анионных радикаловстатья
Статья опубликована в журнале из списка RSCI Web of Science
Статья опубликована в журнале из перечня ВАКСтатья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 25 ноября 2020 г.
- Авторы: Белоконева Е.Л., Реутова О.В., Димитрова О.В., Волков А.С.
- Журнал: Кристаллография
- Том: 65
- Номер: 4
- Год издания: 2020
- Издательство: ФГУП Издательство «Наука»
- Местоположение издательства: Москва
- Первая страница: 575
- Последняя страница: 582
- DOI: 10.31857/S0023476120040037
- Аннотация: Получены кристаллы и исследована структура нового индиевого силикаты с гофрированным слоем. Проведено сравнение с классическими слоями. Описано тополого-симметрийное конструирование цепочек, лент, слоев и предсказаны новые слои.
- Добавил в систему: Белоконева Елена Леонидовна