|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ПсковГУ |
||
Area-selective ALD of Ru on nanometer-scale Cu lines through dimerization of amino-functionalized alkoxy silane passivation filmsстатья
Статья опубликована в высокорейтинговом журнале
Информация о цитировании статьи получена из
Web of Science,
Scopus
Статья опубликована в журнале из списка Web of Science и/или Scopus
Дата последнего поиска статьи во внешних источниках: 29 апреля 2021 г.
- Авторы: Zyulkov I., Madhiwala V., Voronina E., Snelgrove M., Bogan J., O’Connor R., de Gendt S., Armini S.
- Журнал: ACS applied materials & interfaces
- Том: 12
- Номер: 4
- Год издания: 2020
- Издательство: American Chemical Society
- Местоположение издательства: United States
- Первая страница: 4678
- Последняя страница: 4688
- DOI: 10.1021/acsami.9b14596
- Добавил в систему: Воронина Екатерина Николаевна