Journal of Chemical Vapor Depositionжурнал

Статьи, опубликованные в журнале

---

• • 1998 Influence of Deposition Conditions on Structure and Composition of -C:H Films
  • Sleptsov V.V., Khots G.E., Gulina V.L., Antipov A.N., Rudenko A.P., Kulakova I.I.
  • в журнале Journal of Chemical Vapor Deposition, том 6, № 4, с. 314-322
• • 1997 Boron doped diamond films
  • Zalavutdinov R.Kh, Alimov V.Kh, Alexenko A.E., Gorodetsky A.E., Zakharov A.P.
  • в журнале Journal of Chemical Vapor Deposition, том 5, с. 331-335
• • 1996 Growth of a-C:H films in low-temperature plasma
  • Fedoseev D.V., Varshavskaya I.G., Tolmachev Yu N., Bukhovets V.L.
  • в журнале Journal of Chemical Vapor Deposition, том 4, № 1, с. 199-211
• • 1993 Preparation of SnO2 thin films by flash-evaporation MOCVD technique
  • Сhuprakov I.S., Kaul A.R.
  • в журнале Journal of Chemical Vapor Deposition, том 2, с. 123-134