Вернуться к списку оборудования

Установка химического осаждения тонких пленок из газовой фазы УГФОП-нп-2 [1040-44-2023]

Входит в состав: ЦКП "Технологии получения новых наноструктурированных материалов и их комплексное исследование"
Краткое название: Установка химического осаждения тонких пленок из газовой фазы
Тип: Комплексы научного оборудования / Другие комплексы научного оборудования
Подразделение: Кафедра неорганической химии
Начало эксплуатации: 15 декабря 2023
Идентификатор: 623877207
Технические характеристики: Установка предназначена для создания тонкопленочных материалов оксидной электроники, спинтроники и высокочастотной техники. Она используется также в спецпрактикуме по синтезу материалов для студентов Химического факультета и ФНМ, для курсовых работ и научной работы студентов Лаборатории химии координационных соединений. В установке реализован принцип термического осаждения пленок из паров координационных соединений металлов, она обеспечивает получение пленок оксидов металлов широкой номенклатуры. Установка оснащена высокотемпературным реактором (до 1000оС), вакуумной системой, электронной регулировкой потоков газов и температур, системой вращения подложки и оригинальным устройством подачи реагентов в реактор, обеспечивающим прецизионную регулировку скорости осаждения пленок, а также возможность получения пленок в широком интервале толщин (от единиц до тысяч нанометров). Возможно получение слоистых гетероструктур, а также пленок с градиентом состава по толщине.
Расписание:

Адрес:

Ленинские горы, д. 1, стр. 3, помещение 549
Список ответственных за данное оборудование: В состав комплекса входит следующее оборудование:
Тип Название
Другие типы оборудования (указать какие именно) Установка химического осаждения тонких пленок из газовой фазы УГФОП-нп-2

Научные работы: