ИСТИНА

Многослойные зеркала на основе Ti/Ni находят применение как в рентгеновской оптике в источниках синхротронного излучения (СИ), так и в нейтронографии в качестве отражающих элементов. Важным фактором, влияющим на эффективность применения таких систем как зеркал, является качество межслоевых границ. Одним из способов улучшения отражательной способности систем Ti/Ni является включение в структуру периода буферных Si-вставок. В представленной работе проведено исследование влияние Si-вставок на качество межслоевых границ в периодических системах Ti/Ni. Методом рентгеновской рефлектометрии и стоячих рентгеновских волн исследовались четыре типа многослойных пленок на основе 40 периодов: Ti/Ni, Ti/Si/Ni, Ti/Ni/Si и Ti/Si/Ni/Si. Измерения проводились на лабораторном дифрактометре SmartLab Rigaku и на станции РКФМ синхротронного источника КИСИ-Курчатов. Полученные профили распределения электронной плотности и распределения атомов Ti и Ni по глубине позволили количественно оценить толщины переходных слоев. Установлено, что Ti/Ni без вставок имеет наибольшие переходные слои и быстрое затухание пиков. Вставки Si внутри периода (Ti/Si/Ni) или между периодами (Ti/Ni/Si) вызывают асимметрию профилей электронной плотности и распределения элементов. Оптимальной является структура Ti/Si/Ni/Si с минимальными переходными слоями и максимальной интенсивностью первого дифракционного пика, что свидетельствует о её перспективности для рентгеновской оптики, что особенно важно в связи с реализацией проекта источника СИ 4-го поколения с лазером на свободных электронах «СИЛА».