ИСТИНА

Ранее [1] при исследовании энерговклада в индуктивный ВЧ разряд низкого давления, горящего в режиме нелокального ввода ВЧ мощности, было показано, что эффективность вложения ВЧ мощности увеличивается с ростом давления. Теоретическая и численная модели пространственно ограниченного индуктивного источника плазмы [1] объяснили указанную зависимость увеличением частоты столкновений электронов с нейтральными частицами. Численные расчеты [1] были выполнены в предположении, что плазма однородна в объеме источника. Известно, что при давлениях, когда длина свободного пробега электронов становится меньше ширины скин-слоя появляется сильная пространственная неоднородность параметров плазмы. Цель настоящей работы состояла в экспериментальном исследовании закономерности энерговклада в плазму индуктивного ВЧ разряда при давлениях, когда происходит переход от нелокального к локальному режиму горения разряда.