|
ИСТИНА |
Войти в систему Регистрация |
ИСТИНА ПсковГУ |
||
Atomic layer deposition of TiO2 and Al2O3 on nanographite films produced by PECVD: structure and field emission propertiesдоклад на конференции
- Авторы: Ismagilov R.R., Obraztsov A.N., Kleshch V.I.
- Международная Конференция : 20th biennial European conference on chemical vapor deposition “EuroCVD20”
- Даты проведения конференции: 13-17 июля 2015
- Дата доклада: 15 июля 2015
- Тип доклада: Стендовый
- Докладчик: не указан
- Место проведения: Sempach, Switzerland
- Добавил в систему: Исмагилов Ринат Рамилович