ИСТИНА

• Охват: Международная
• Даты проведения: 15-17 февраля 2016
• Место проведения: Dortmund, Германия
• Организатор:
  Raith GmbH
• Число участников: 70
• Число иностранных участников: 65
• Число участников из МГУ: 1
• Число докладчиков: 20
• Веб-сайт: https://www.raith.com/events/training-education/nanolithography-seminars/raith-nano-2016.html
• Добавил в систему: Преснов Денис Евгеньевич

Доклады:

• 2016 Electron Beam Lithography at the chip edge for local probe with active nanosensor. (Приглашенный)
• Автор: Presnov D.E.